主要チップメーカーに2台の高開口数EUV露光装置が設置完了しました。

2024年10月10日のニュース —— 2台の高開口数（High NA）極紫外線（EUV）露光装置が、先日主要な半導体メーカーの工場で無事設置を完了した。これらの装置は1台あたり約3億5000万ドルで、現在世界で最も先進的かつ高価な露光装置の一つである。

高数値開口EUV露光装置の迅速な展開

報道によると、この2台の高数値アパーチャーEUV露光装置は、昨年末にアメリカのオレゴン州にある製造工場に到着し、2025年末までに生産が開始される予定です。これらの露光装置は、既存のEUV技術の「アップグレード版」と見なされており、全く新しい製品ではないため、導入や普及が比較的迅速に進んでいるとされます。

「高開口数EUV露光装置は既存のEUV露光装置のアップグレード版と言え、早期の登場と応用を期待している」と、同社の新CEOは最近の公開講演で述べた。

革新的な組立方法で時間とコストを節約

最近開催された国際光学会議において、同社の新CEOは高開口数EUV露光装置の新しい組立方法について詳しく説明しました。これらの装置は現在、メーカー側で事前に組み立ててから分解・搬送する必要なく、顧客の現場で直接組み立てることが可能です。この方法は比較的単純な堆積・エッチングツールでは既に成功を収めており、高複雑度の露光装置については現在も最適化が進められています。この取り組みにより、大幅な時間とコストの削減が見込まれ、高開口数EUV露光装置の開発ペースが加速すると予想されています。

モジュール設計により汎用性と効率性を向上

一般的EUV露光装置と高開口数EUV露光装置の主な違いは、レンズスタックにあります。モジュール設計により、ユーザーは同じ基本ツール内で異なるタイプのレンズスタックを交換可能で、通常のEUVレンズ、高開口数レンズ、および超高開口数レンズを含みます。この設計は装置の汎用性を向上させるだけでなく、より多くのコスト削減と設置時間の短縮をもたらし、結果として全体の利益向上につながります。

安定電源と高効率生産

高開口数EUV露光装置に必要なインフラは全て整備され稼働を開始しており、740ワットの安定した電源供給が実現され、将来的には1000ワットの供給能力を達成する予定です。さらに、フォトマスク検査システムも起動済みで、装置が過剰な補助サポートなしで生産ラインに投入できることが保証されています。

高マスクサイズによるチップ性能のブレークスルー

去年、あるチッププロセスの専門家が国際会議で、マスクサイズを6インチ×6インチから6インチ×12インチに拡大するアイデアを提案しました。今年に入り、この技術は複数のフォトマスクインフラ企業から大きな支持を得ています。同社によると、倍サイズマスクの採用は業界にとって容易なブレークスルーであり、高NA技術がチップサイズに課す制限を克服し、40％の性能向上を実現すると見込まれています。

高開口数（NA）リソグラフィ装置による生産加速

別のリソグラフィ責任者が明らかにしたところによると、現在すでに2台の高開口数EUVリソグラフィ装置がポーランドの生産工場に設置完了している。これらのシステムは標準的なEUVリソグラフィ装置と比べて著しい改良が示されており、最初の1台よりも更に速い設置スピードが期待されている。すべての必要なインフラが整備され、フォトマスク検査システムも稼働を開始したことで、高開口数EUVリソグラフィ装置はより迅速に生産ラインに投入できる見込みだ。

業界の反応と今後の展望

一部の半導体メーカーはコストを理由に高開口数EUV露光装置の導入を一時見合わせているが、業界アナリストは、技術の進歩と生産効率の向上に伴い、これらのメーカーも業界競争力を維持するために対応せざるを得なくなると予測している。さらに、高開口数露光装置の登場が現在の技術的ボトルネックを克服し、ムーアの法則の持続的な発展を促進するのに役立つという噂もある。

今回の会議では、高開口数EUV露光装置の導入と全体的な技術進歩が好材料と見なされ、チップ製造の精度と効率の向上に寄与するだけでなく、関連装置メーカーの株価にもプラスの影響を与えるとされています。世界的な半導体市場における先端露光技術への需要の高まりに伴い、高開口数EUV露光装置の成功した展開は、業界内でのリーディングポジションをさらに強化することでしょう。